logo
Asosiy
Kutubxona
Cd(Me)Te и Ga(As, Se, N) кристалларни импульсли ишлов бериш усулларини оптималлаштириш
    image
    Daraja:
    Oliy o‘quv yurtidan keyingi ta‘lim
    Tur:
    Avtoreferat
    Muallif:
    Даулетмуратов Борибай Коптлеуович
    Nashr etilgan yili:
    2017
    UDK raqami:
    УДК: 621.382.699.782
    Yaratilgan vaqti:
    03.09.2023
    0
    Жаҳонда, бугунги кунда хар хил яримўтказгичларни ва структураларни импульсли лазерли ишлов бериш кенг қўлланилиши муносабати билан фотодиодларни, гамма нурлари ва рентген детекторларини, А2В6 қаттиқ қотишмалар асосидаги инфрақизил сенсорларни тайёрлашда ишлатилувчи лазерли импульсли термик ишлов бериш, тоблаш, юзани тозалаш, лигерлаш, кристаллизацияни ўзгартириш, юпқа катламларни ўтказиш, абляциялаш, юзадан сочиш ва яримўтказгичларни наноструктуралаштириш мухим ахамиятга эга. Бу борада импульсли лазерли индуцирланган қаттиқ ва суюқ фазали лигерлаш истиқболли йўналишлардан бири бўлиб келмоқда.